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為客戶(hù)提供全面的設(shè)備和工藝解決方案

• 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備

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"產(chǎn)品中心

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AVP IBE System

-歐美工業(yè)生產(chǎn)證明的、可靠、低成本、高產(chǎn)能的薄膜刻蝕系統(tǒng)
-廣泛應(yīng)用的微、納器件加工、刻蝕設(shè)備
-杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性
-純物理刻蝕，采用惰性氣體為工藝氣體，環(huán)保、無(wú)污染，應(yīng)用廣泛
-低維護(hù)、低成本、低CoO

-歐美工業(yè)生產(chǎn)證明的、可靠、低成本、高產(chǎn)能的薄膜刻蝕系統(tǒng)
-廣泛應(yīng)用的微、納器件加工、刻蝕設(shè)備
-杰

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AVP HR PVD System

-高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
-高靶材使用率（>80%）

-高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉

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"關(guān)于艾微普

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專(zhuān)注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備

公司由美國(guó)硅谷企業(yè)家團(tuán)隊(duì)與國(guó)內(nèi)著名上市企業(yè)天通公司(TDG)合作，在浙江海寧創(chuàng)立。公司聚集了多位海內(nèi)外資深微納加工及半導(dǎo)體設(shè)備、工藝、材料專(zhuān)家，專(zhuān)注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備。

公司的核心技術(shù)和產(chǎn)品包括物理氣相沉積/磁控濺射（PVD）、離子束刻蝕機(jī)（IBE）、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（RIE）等系列MEMS、半導(dǎo)體、新能源器件制造專(zhuān)用設(shè)備。公司自創(chuàng)立以來(lái)，已經(jīng)獲得幾十項(xiàng)國(guó)家專(zhuān)利。

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